第26回（2016年）フォトファブリケーション基礎技術セミナー
平成28年度の[フォトファブリケーション基礎技術セミナー]が6月23日、東京・中野サンプラザで開催されました。 このセミナーは、フォトファブリケーションの各工程と主要材料について、下記の8名の講師が1日コースで判りやすく解説するもので、会員会社の社員教育の一環として幅広く利用されています。 今回もフォトファブリケーションの各分野に新しく携わる方や改めて工程と材料の全体を学び直したい方を中心に41名が受講されました。
講義名と講師
- フォトファブリケーション概説：大日本印刷(株) 吉沼洋人氏
- フォトマスク工程：(株)SCREEN GP 長田孔明氏
- フォトマスク材料：コニカミノルタ(株) 守屋友伸氏
- フォトレジスト材料：冨士薬品工業(株) 根本修司氏
- ドライフィルムレジスト材料：三菱製紙(株) 梶谷邦人氏
- フォトエッチング工程：凸版印刷(株) 高城総夫氏
- フォトフォーミング工程：太洋工業(株) 瀧川敦誉氏
- 金属材料：(株)日立金属ネオマテリアル 尋木好幸氏
受講者全員にアンケートをお願いしましたところ、72％の方に講義内容を[ほぼ理解できた]、 [よく理解できた]と回答していただき又、90％の方にセミナーを[ほぼ満足した]、[満足した]と高い評価をいただきました。 多くの方に参加いただき好評を博しましたことで、セミナーの目的は十分に果たすことができました。 ご多忙中にもかかわらずご出講いただきました講師の皆様に厚く御礼申し上げます。
今回も協会発行のテキスト[フォトファブリケーション実務入門読本]を受講者に事前に送り、予習をしていただきました。 各講義では、講師が詳細なパワーポイント資料を判りやすく解説し、Q&Aも活発になされました。 セミナー終了後、このパワーポイント資料を希望者に送付しますので、教育効果はより一層高まるものと期待しております。
以上。